磁場(chǎng)輔助批量化拋光設(shè)備

功能介紹

該系列設(shè)備為高精度批量化拋光設(shè)計(jì)的智能化設(shè)備，適用于金屬制樣、異形金屬工件(醫(yī)療器械、模具、高端刀具)及小型光學(xué)玻璃元件的表面處理。設(shè)備采用模塊化設(shè)計(jì),集成智能控制系統(tǒng)與磁場(chǎng)輔助批量化拋光工藝,滿足實(shí)驗(yàn)室及加工車間的高效、高精度需求。

【設(shè)備亮點(diǎn)】

1.創(chuàng)新技術(shù)

※可實(shí)現(xiàn)曲面元件批量拋光且同步達(dá)到納米級(jí)表面粗糙度與微米級(jí)保形精度的技術(shù)。

※可同時(shí)拋光幾十甚至數(shù)百件工件。

2.應(yīng)用領(lǐng)域廣泛

※用于金屬制樣、醫(yī)療器械(手術(shù)器械/植入物)、高端刀具(硬質(zhì)合金刀具)、光學(xué)元件(鏡片/光學(xué)模具)、航空航天、半導(dǎo)體及奢侈品制造等高端領(lǐng)域。

※根據(jù)客戶的具體需求提供定制化方案。

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lzzkkh@licp.cas.cn

蔣工：13609382552

王工：15117025700

技術(shù)指標(biāo)

單軸拋光系統(tǒng)MAMP-100
拋光工件類型	尺寸（mm）	重量（Kg）	電功率（W）
單面工件拋光	500400600	65	1000
電機(jī)轉(zhuǎn)速（RPM）	額定轉(zhuǎn)矩（Nm）	工作溫度（℃）	工作濕度（％）
0-2000	4.77	0-40	5-90

雙軸拋光系統(tǒng)MAMP-2-150
拋光工件類型	尺寸（mm）	重量（kg）	電機(jī)功率
回轉(zhuǎn)類工件拋光	5004001000	100	1000/750
電機(jī)轉(zhuǎn)速（RPM）	額定轉(zhuǎn)矩（Nm）	工作溫度（℃）	工作濕度（％）
0-2000/0-3000	4.77/2.4	0-40	5-90

安裝要求

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